微電子行業在生產過程中，需要超純水進行清洗，生產高品質純化水是微電子行業一個重要生產要求。

制備超純水流程中，因紫外線技術在超純水高品質要求中不引入新的物質，而得到廣泛應用。

有機物是超純水系統中最難控制的污染，隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小挑戰，對超純水中TOC值的要求越來越高，因此，如何配置紫外線，如何確認配置中紫外線設備的有效紫外劑量，進而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高，安力斯將為您解決這些運營困擾。

工業園區，尤其是化工和制藥園區廢水處理往往會遇到以下“卡脖子”難題：1、化工廢水來源復雜，難生物降解，很難通過其它方法低成本去除；2、不明來源污水中潛藏毒性物質，影響污水處理廠運行。這些問題通過常規的污水處理工藝處理后出水COD等指標無法穩定達標排放，往往需要通過高級氧化技術進行預處理或深度處理。安力斯根據園區進水水質情況主要采用紫外氧化工藝中的光芬頓和過臭氧光催化工藝。

光芬頓，降解效率更高、藥劑投加量少而運行成本低、產泥量大幅降低。過臭氧光催化工藝（UV/O3/H2O2）是最常見的一種后置高級氧化工藝，能有效降低COD，同時具有消毒的效果，且不會造成二次污染。

制藥廢水成分復雜、濃度和鹽分高、色度和毒性大，往往含有種類繁多的有機污染物質，這些物質大多數都是難生降解的生化物質，可以在相當長的時間內存留于環境中，嚴重危害的人類健康。安力斯紫外氧化工藝去除醫藥和化學行業中有害的化學物質和活性物質是非常有優勢的。可以根據實際要求提供不同的處理深度。可以對特定的目標物質選擇性的去除，同時提高生物利用度。

紫外氧化對制藥廢水去除毒性和提高生物利用率的預處理是非常有優勢的。紫外氧化常用于對高濃度的母液進行預處理，然后因為高鹽度需要和其它工廠廢水混合稀釋后并引入生化池進一步處理。通過引入紫外氧化工藝對制藥廢水分類預處理去除毒性的方式，在投資成本、運行成本、處理效率方面都有明顯優勢。