半導體廢水處理設備

半導體廢水處理設備，目前，沉淀法、離子交換法和氧化法是處理半導體廢水的有效手段。

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光伏廢水處理 工業(yè)廢水處理設備

光伏廢水處理應用于醫(yī)藥、農藥、化工等行業(yè)去除生物毒性，提高廢水的可生化性。高含鹽廢水的TOC/COD去除，降低蒸發(fā)設備故障率，提高產鹽的資源回收率。

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有機氟廢水處理設備

有機氟廢水處理設備見含氟廢水的處理方法包括：活性炭吸附、離子交換、反滲透、氟化鎂沉淀法、生物處理和氧化法等。

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精細化工廢水處理

精細化工廢水處理來源于工藝廢水、輔助設備廢水以及沖洗廢水。其中工藝廢水是在這3種廢水當中最難處理水，其不僅污染物濃度高（有機物、氨氮、無機鹽等），而且構成成分復雜、可生化性差、降解難度高。

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煤化工廢水處理

煤化工廢水處理采用超聲波氧化、芬頓氧化、光芬頓氧化等高級氧化技術進行預處理。芬頓氧化是利用Fe2+與H2O2互相反應得到強氧化性的羥基自由基，將廢水中的難降解有機物加以降解的技術。

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化學制藥廢水

化學制藥廢水,制藥廢水預處理,制藥廢水深度處理是一類相對特殊的水，其主要有以下特點：1）濃度高，廢水中殘余的反應物、生成物、溶劑、COD等含量高。2）化學合成反應的副產物多，無機鹽含量高。pH值變化大，如果采用中和反應的話，消耗酸堿量大，成本高；如果采用萃取或提煉的方法，工藝流程復雜。廢水成分復雜，具有生物毒性，難降解等。

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母液預處理

母液預處理,蒸發(fā)結晶預處理因具有高鹽分、高COD、焦油、粘壁等特點，其有效去除一直是水處理方面面臨的難題。目前針對高鹽廢水的處理技術主要有多效蒸發(fā)和MVR 等。

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工業(yè)廢水預處理

工業(yè)廢水預處理是在一級處理 之前廢水的任何處理過程，如格柵、篩網(wǎng)、粉碎、撇渣 、油脂去除、除砂、預曝氣、均化、pH值調節(jié)等過程.。

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半導體超純水說明

半導體超純水說明主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業(yè)部電子級水水質標準。

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光化學高級氧化

光化學高級氧化，光化學已經(jīng)深入了各領域的高級氧化應用，包括電子行業(yè)超純水TOC降解，自來水中微污染有機物去除，污水處理廠提標改造及深度處理，高難有機廢水預處理等。其中過臭氧光催化氧化技術更多應用于污水處理廠預處理及深度處理；而光芬頓技術因反映效率高（均相反應）、反應條件溫和（常溫常壓），應用范圍廣（COD適用范圍廣），在各行業(yè)高難有機廢水處理中有著廣闊的應用前景。$n$n?

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光化學工業(yè)水處理

光化學工業(yè)水處理應用于醫(yī)藥、農藥、化工等行業(yè)去除生物毒性，提高廢水的可生化性。高含鹽廢水的TOC/COD去除，降低蒸發(fā)設備故障率，提高產鹽的資源回收率。

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光化學水處理

光化學高級氧化,光化學水處理：光化學是研究物質吸收光子后，分子層面發(fā)生的化學變化，包括電子、原子、分子在基態(tài)和激發(fā)態(tài)的轉變，理化性質變化及其引發(fā)的鏈反應。安力斯光化學工業(yè)水處理技術是研究水處理凈化過程中，有機物或無機物目標分子在100-700nm光子的激發(fā)下所發(fā)生的化學反應。

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光催化高級氧化介紹

光催化高級氧化介紹技術原理：在紫外線激發(fā)下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

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紫外線消毒器設備

紫外線消毒器設備占地面積小，系統(tǒng)結構緊湊，潛在風險小，確保操作人員安全。系統(tǒng)的安裝十分簡便，不會對工廠的正常生產造成干擾，所需要的維護工作簡便，相比于其他的飲用水深度處理工藝有著顯著的優(yōu)勢

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半導體超純水設備

半導體超純水設備主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業(yè)部電子級水水質標準。

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